Résumé:
Des dépôts de chrome ont été élaborés à partir des bains de chrome trivalent contenant
le chlorure de chrome trivalent (CrCl3x6H2O) comme source d'ion, les chlorures de
d'ammonium et de sodium (NH4Cl et NaCl) en tants que des électrolytes supports, l'acide
formique et l'urée (HCOOH et (NH2)2CO) comme agents complexants et l'acide borique
(H3BO3) jouant le rôle d'un agent tampon. L’influence des paramètres physico-chimiques sur
l’épaisseur et la microdureté des dépôts de chrome ont été étudiées.
Les résultats obtenus montrent que les dépôts de chrome élaborés dans les conditions
optimales citées ci-dessous sont uniformément étalés sur toute la surface, d'un aspect peu
brillant, d'une épaisseur de la couche de chrome allant jusqu'à 25 μm et d’une microdureté de
1241 HV:
• La température du bain : 30 °C.
• L'intensité de courant : 0,3 A.
• pH du bain : 0,44 ÷ 1,22.
• La distance entre les électrodes : 0,6 ÷ 0,8 cm;
• La vitesse d'agitation du bain : 0 ÷ 60 tours/minute;
• Le temps maximal d'électrolyse : 18 minutes.
L'étude faite par voltampéromètrie cyclique montre que la complexation par le
mélange d’urée et d’acide formique inhibe considérablement la réaction de réduction. Ceci
peut expliquer la bonne qualité des dépôts de chrome obtenu à partir du bain du mélange des
complexants. Les tests de corrosion montrent que les dépôts de chrome issus des bains de
chrome trivalent résistent mieux à la corrosion que ceux issus des bains de chrome hexavalent
dans la solution de NaCl à 3,5 %.
