Thèses en ligne de l'université 8 Mai 1945 Guelma

Clontribution à l'étude des couches minces de Cobalt

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dc.contributor.author khazen, noussaiba
dc.date.accessioned 2019-02-25T13:13:29Z
dc.date.available 2019-02-25T13:13:29Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.uri http://dspace.univ-guelma.dz:8080/xmlui/handle/123456789/2605
dc.description.abstract Ce travail porte sur l’étude des couches minces de Cobalt préparées par électrodéposition. la avoie électrolytique est de plus en plus utilisée, à cause de sa grande souplesse, son moindre coût et sa facilité de mise en oeuvre.Elle offre également I'avantage de pouvoir contrôler la structure et l'épaisseur des dépôts en modifiant plusieurs paramètres tels que la densité de courant. st le potentiel, le temps de dépôt, la composition du bain et le substrat.Le processus électrochimique se fait des étapes élémentaires de cristallisation électrolytique conduisant d la réduction des dissoutes, en atomes métalliques, et d l'incorporation de ces atomes dans le réseau lin du substrat. Les résultats obtenus, dans ce travail, montrent que l'épaisseur de la couche est influence de par la nature du substrat,la densité du courant faradique et la durée de l'électrodéposition .Ainsi, une augmentation de l'épaisseur des couches avec I'augmentation du de dépôt a été observée pour les différentes conditions expérimentales utilisées. en_US
dc.language.iso fr en_US
dc.title Clontribution à l'étude des couches minces de Cobalt en_US
dc.type Working Paper en_US


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