Please use this identifier to cite or link to this item: http://dspace.univ-guelma.dz/jspui/handle/123456789/4115
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorLAHAG Lemya, DRISSI Widad-
dc.date.accessioned2019-09-24T12:44:08Z-
dc.date.available2019-09-24T12:44:08Z-
dc.date.issued2019-06-
dc.identifier.urihttp://dspace.univ-guelma.dz:8080/xmlui/handle/123456789/4115-
dc.description.abstractL’objectif de ce travail est d’étudier l’effet d’une plante, Daphne gnidium L., utilisée comme additif de substitution aux brillanteurs synthétiques du bain de Watts, en l’occurrence le le formaldéhyde sur les propriétés des dépôts électrolytiques du nickel. Cette plante été testée pour son rôle de brillanteur secondaire pour l’électrodéposition du nickel. Elle consiste à rajouter au bain de Watts, une quantité précise de poudre de feuilles du Daphne gnidium L., séchées et broyées, en tant que brillanteurs secondaire. L’étude cinétique par voltampérométrie cyclique a montré que cette plante présente un effet inhibiteur de la réaction de réduction du nickel presque pareille à celui donnée par le formaldéhyde. L’examen de la brillance et de la morphologie a révélé la possibilité d’obtenir des dépôts de nickel aussi brillants, et uniformes, en présence de la poudre de plante. L’idée clé d’utiliser la poudre du Daphne gnidium L., directement dans le bain de Watts, en tant qu’additif, permet de réduire fortement le temps et le coût de l’électrodéposition du nickel en présence de la plante tout en offrant un substituant écologique aux substances synthétiques nocives.en_US
dc.language.isofren_US
dc.subjectDaphne gnidium L, voltampérométrie cyclique, brillanteurs synthétiques, dépôt électrolytique, bain de Wattsen_US
dc.titleEtude phytochimique du Daphne gnidium L. et son effet sur l’électrodéposition du nickelen_US
dc.typeWorking Paperen_US
Appears in Collections:Master

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
combinepdf (10).pdf3,58 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.